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国内真空镀膜设备概述

* 来源: * 作者: * 发表时间: 2019-07-20 8:40:22 * 浏览: 1
中国真空镀膜设备的开发始于20世纪50年代。当时,开发了各种蒸发真空镀膜设备,以满足光学工业发展的需要。进入20世纪70年代以后,由于国民经济各个领域的需要,各种类型的真空镀膜设备得到了很大的发展。目前,各种涂装设备基本齐全,种类齐全,可满足各行业的需求。真空镀膜设备的主要类型包括真空蒸发镀膜设备,磁控溅射镀膜设备,离子镀设备和化学气相沉积涂层设备。所有类型的涂层设备和制造商见表10-31。